多光子光刻(MPL)是一种利用超短激光脉冲在微纳米尺度上制造复杂三维(3D)结构的技术。它基于多光子吸收(MPA)原理，当两个或多个光子同时被一个分子吸收时，就会发生非线性光学过程。
通过将激光束聚焦在光敏材料上，如光刻胶或预聚物，多光子吸收引起局部化学反应，从而改变材料的性质。通过扫描激光束和/或在三维中平移样品，可以在没有任何几何限制的情况下以高分辨率和精度制造所需的形状。这使得激光3D纳米打印作为一种增材制造技术得以实现。
MPL已经在微光学、纳米光子器件、超材料、集成芯片和组织工程等领域得到了广泛的应用。它可以创造出传统光刻方法不可能或难以实现的结构，例如曲面、空心结构和功能梯度。它还可以制造具有定制光学、机械和生物特性的新型材料。
尽管MPL装置是商用的，但对光物理和光化学机制的理解仍然存在争议，因为大多数常见的激光源被选择为800 nm波长，而其他流行的515 nm或1064 nm波长也被证明是合适的。
然而，单一和最流行的双光子吸收理论不能用于解释所有不同的实验条件和产生的结果。这对激光光源的进一步发展和面向工业需求的高通量纳米3D打印设备的建设具有重要意义。
实验与发现
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希望本篇文章《三维纳米光刻技术中的X光子应用》能对你有所帮助！
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